Hãng sản xuất bộ nhớ của Nhật Bản – Elpida – vừa trở thành hãng đầu tiên ứng dụng công nghệ high-k metal gate (HKMG) để phát triển các chip nhớ 2Gb DDR2 DRAM di động (LPDDR2) trên node 40nm.
Tin liên quan:
>> Elpida phát triển dòng DRAM mới cho smartphone
>> Hãng chip Elpida duy trì nguồn cung sau động đất
Công nghệ HKMG cho phép Elpida có thể tạo ra các bộ nhớ nhanh hơn, tiết kiệm năng lượng hơn; điều này rất có lợi trong việc sản xuất bộ nhớ cho các thiết bị di động thế hệ kế tiếp.
Elpida có kế hoạch bắt đầu sản xuất mẫu 40nm DDR2 DRAM dùng công nghệ HKMG vào cuối tài khóa 2011 (kết thúc vào ngày 31 tháng 3 năm 2012), tiếp theo đó sẽ đi vào sản xuất đại trà; ngoài ra Elpida cũng nhắm đến mở rộng công nghệ này để sử dụng trên các node 30nm và 25nm sắp tới.
Theo VozExpress
Xem đầy đủ bài viết tại http://www.lomkom.com/2011/06/103772
0 nhận xét:
Đăng nhận xét